| 防汚塗布膜の撥水現象の観察 |
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利用者氏名：代表取締役技術担当 横尾 嘉也
所属：GAST JAPAN 株式会社
利用施設名：名古屋大学、エコトピア科学研究所、超高圧電子顕微鏡施設
利用期間：平成２１年４月１０日〜平成２１年９月３０日
利用の目的・内容：塗布膜の厚さと均質性の確認
成果の概要：
1)塗布膜の厚さが１０nm であり、均一な塗布状態である観察写真が撮影出来た。
2)塗布するガラス基板の差異により塗布状態が異なる事の観察写真が撮影出来た。
○シリコンウエファーの場合；結晶化する。
○SiO2の場合；結晶化しない。 |
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| 撥水効果の根拠を明確にする為に、実際に塗布されている塗布膜の厚さの断面を観察写真にて得る事。 |
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カーボンスパッタコーターにてコーティングを実施。コーティング後、FIB（加速電圧30kV）にてブロック加工し、0.15μm程度に薄片化した。
TEM（加速電圧 200kV）を用いた明視野像、暗視野像及び電子回折図形の観察した。また、組成はEDS mapping 分析によった。 |
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| ブランク試験として実施した塗布されていないSi基板の表面の断面観察像を図１に示す。Si基板と保護膜としてコーティングしたカーボン膜との間には何も存在しない。 |
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| これに対して、Si 基板上に塗布したサンプルでは図２の暗視野像からわかるように、Si 表面(カーボンコートとSi 基板の界面)に10nm の厚さの多結晶膜がみられた。 |
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| 一方、SiO2基板上での塗布膜は結晶化していないことが分かった。 |
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| TEMによってPdナノ粒子を直接的に観察できた。特に熱劣化によるPdナノ粒子の粗大化を確認できた。これらの知見を触媒作製にフィードバックすることで触媒に使用する貴金属量の低減につなげたいと考えている。 |
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| なし |
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| なし |
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